该系统在分析所用的束流条件下，可提供极高的二次电子图像分辨率（10 kV 加速电压下，10 nA 时分辨率为 20 nm，100 nA 时分辨率为 50 nm，1 μA 时分辨率为 150 nm）。与传统电子枪（CeB6、钨靶）相比，成像结果非常清晰。
使用远高于传统电子枪的束流即可获得相同分辨率的图像，因此可以进行极高灵敏度的 X 射线分析。
另一个值得关注的点是使用 1 μA 束流进行 SEM 成像。只有 EPMA-8050G 能够提供至少 1 μA 的束流，而且还能将光束精细聚焦到这一点。