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原装SEN日森真空式光学表面处理装置
产品型号：PL1-1107A
产品展商：

姓名 真空式光学表面处理装置 模型 PL1-1107A 概述 该设备在真空中照射185nm和254nm的光。 目的 ・透镜、棱镜的清洗、改造 ・各种基板材料的预处理 特征 - 真空度为 0 至 0.001 Torr。 - 照射尺寸为 300 x 400 mm，因此可用作生产机器。
详细介绍

工作原理

  • 物**相沉积（PVD）：在真空环境下，通过加热蒸发、溅射等方式使镀膜材料气化，然后气态的镀膜材料在光学元件表面沉积形成薄膜。如电子束蒸发就是利用电子束轰击镀膜材料使其蒸发，蒸发后的原子或分子在真空环境中飞向光学元件表面并沉积下来3。
  • 化学气相沉积（CVD）：将含有薄膜组成元素的气态反应剂引入真空室，在一定温度和压力等条件下，反应剂在光学元件表面发生化学反应，生成固态的薄膜材料并沉积在表面。

结构组成

  • 真空系统：由真空泵、真空腔室、真空阀门、真空测量仪表等组成，用于抽取真空腔室内的气体，形成高真空或超高真空环境，保证镀膜过程不受空气等杂质的干扰5。
  • 镀膜材料供给系统：根据镀膜方法的不同有所区别，如在电子束蒸发镀膜中，有电子束蒸发源，用于加热蒸发镀膜材料；在溅射镀膜中，有溅射靶材，通过离子轰击靶材使靶材原子溅射出来沉积到光学元件表面35。
  • 基片处理系统：包括基片架、基片加热装置、基片旋转装置等，基片架用于放置光学元件基片，基片加热装置可对基片进行加热，改善薄膜的附着力和结晶性能等，基片旋转装置使基片在镀膜过程中均匀旋转，保证薄膜沉积的均匀性5。
  • 监控系统：有膜厚监控仪，通过光学、石英晶体振荡等方法实时监测薄膜的厚度，确保镀膜厚度达到设计要求；还有过程监控系统，可对真空度、温度、镀膜时间等工艺参数进行实时监测和控制35。

应用领域

  • 光学仪器：如望远镜、显微镜、相机镜头等，通过真空光学镀膜可以提高镜头的透光率、减少反射，提升成像质量，还可以镀制滤光膜，实现特定波长光的过滤11。
  • 光通信：在光纤通信中，对光纤端面、光器件等进行真空表面处理，镀制增透膜、反射膜等，可提高光信号的传输效率和质量。
  • 显示领域：用于液晶显示器、有机发光二极管显示器等的制造，如在玻璃基板上镀制透明导电薄膜、光学补偿膜等，改善显示效果。

性能特点

  • 高精度镀膜：能够**控制薄膜的厚度和成分，实现纳米级甚至更高精度的镀膜，满足光学元件对薄膜光学性能的严格要求3。
  • 良好的薄膜质量：在真空环境下镀膜，薄膜的纯度高、致密性好、表面平整度高，具有较好的光学均匀性、机械性能和化学稳定性3。
  • 可镀多种材料：可以镀制金属薄膜、介质薄膜、半导体薄膜等多种材料，满足不同光学应用对薄膜光学常数、导电性等性能的需求
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