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进口现货ULVAC爱发科高密度等离子刻蚀设备
产品型号:NE-550EX
产品展商:ULVAC爱发科

研发用NE-550EX高密度等离子蚀刻系统是采用静磁场ICP(ISM)方式的高密度等离子蚀刻系统,是以LL腔室为标准的单晶圆处理系统,结构紧凑、价格低廉。

详细介绍

研发用NE-550EX高密度等离子蚀刻系统是采用静磁场ICP(ISM)方式的高密度等离子蚀刻系统

是以LL腔室为标准的单晶圆处理系统,结构紧凑、价格低廉

特征

  • 与其他ICP方法相比,磁场辅助可以产生更低的压力、更低的电子温度和更高密度的等离子体,并且可以从离子蚀刻到自由基蚀刻进行广泛的等离子体控制,使其成为一种适用于各种工艺的开发工具。
  • 配备“星形电极”,防止射频输入窗口沉积。此外,还配备加热功能,该设备理念强调了可重复性和稳定性。
  • 高可靠性的转运机器人和简单的装置结构使其易于维护,成为可靠的研发工具。
  • 有多种可选功能可供选择,还可以添加磁带隔间。
  • 该系列包括 NE-5700 和 NE-7800,它们兼容多腔体并由用于量产线的相同腔体组成。

目的

  • 复合材料(LED、LD、高频器件、功率器件)。
  • 电极加工、金属配线、有机薄膜、陶瓷加工等。
  • 用于加工铁电体、贵金属、磁性薄膜等难蚀刻材料。
  • 纳米压印、NEMS、MEMS、各种传感器。
  • 生物芯片、微流体装置、光子晶体等。

规格

系统配置 研发/原型设备+装载锁室
板尺寸 ~150毫米
工作压力(Pa) 0.07 - 6.7
平面内/平面间均匀性 *大±3%。
基板温度控制 静电吸盘